HG5下展式搪瓷放料阀

HG5下展式搪瓷放料阀是一种专门设计用于‌化工、制药、食品‌等‌强腐蚀性环境‌下，安装在‌反应釜、储罐、结晶罐等容器底部‌进行‌放料、取样或清洗操作的阀门‌。

主要应用范围

1. ‌强腐蚀性介质场合：‌

   • ‌无机酸：‌ 硫酸（尤其是浓硫酸、稀硫酸）、盐酸、硝酸、磷酸（温度浓度需注意）、铬酸、混酸等。
   • ‌有机酸：‌ 醋酸、草酸、柠檬酸、甲酸等。
   • ‌盐类溶液：‌ 氯化物（如氯化钠、氯化铁、氯化铜）、硫酸盐、硝酸盐等。
   • ‌溶剂：‌ 醇类、酮类、酯类（需确认兼容性）。
   • ‌反应混合物：‌ 各种强腐蚀性化学反应的中间体或产物。

2. ‌化工过程设备：‌

   • ‌反应釜/反应罐底部放料：‌ 这是最经典的应用场景。例如合成染料、颜料、农药、医药中间体、精细化学品等的反应结束后排放物料。
   • ‌储罐/计量罐底部放料：‌ 存放各种腐蚀性原料或成品的储罐下方。
   • ‌结晶罐/蒸发器底部放料：‌ 在结晶或浓缩工艺后排放晶体悬浮液或浓缩液。
   • ‌中和釜/稀释槽放料：‌ 处理酸碱性物料。
   • ‌过滤器/压滤机进料或排液。‌

3. ‌含颗粒或结晶的介质：‌

   • 下展式结构使其特别适合处理含有少量固体颗粒、结晶或浆料的腐蚀性介质。阀瓣开启方向避免了颗粒直接冲刷密封面。
   • ‌例如：‌ 结晶过程中的晶体悬浮液、反应生成的沉淀物、含有少量催化剂的物料等。

4. ‌卫生要求较高的场合（需满足特定标准）：‌

   • 搪瓷表面光滑、不渗透、易清洁的特性，使其可用于对清洁度有要求的场合，如‌食品工业中的某些酸、盐溶液处理工序‌，以及‌制药行业的某些中间体或原料药生产‌。但需确认搪瓷釉料符合相关卫生标准（如FDA），且设计需便于彻底清洁。

5. ‌中低压、常温或中温场合：‌

   • 通常设计压力等级不高（如PN6/PN10/PN16）。
   • 工作温度一般在 ‌-20℃ 至 +200℃‌ 范围内。
     • ‌注意：‌ 搪瓷层不耐急冷急热（热冲击），温度剧烈变化容易导致瓷层爆裂。使用温度应平稳，避免超过设计上限。

⚠ 注意事项和不适用情况

1. ‌含氟介质（特别是氢氟酸和氟化物溶液）：‌ 搪瓷会被严重腐蚀溶解，‌绝对禁止使用‌。
2. ‌高温浓碱（如浓度>30%，温度>80℃的氢氧化钠/钾溶液）：‌ 搪瓷会被强碱缓慢腐蚀溶解，导致失效。低温稀碱可用，但需谨慎评估。
3. ‌含有高硬度、尖锐或大颗粒固体（如砂砾、金属屑）的介质：‌ 虽然耐磨，但剧烈冲刷或撞击仍可能导致瓷层破损。对于大量硬颗粒或磨损性极强的浆料，应考虑更耐磨的阀门（如陶瓷阀）。
4. ‌剧烈温度变化（热冲击）：‌ 会导致瓷层龟裂、剥落。‌严禁用高温蒸汽直接喷射冲洗冷的阀门！‌
5. ‌机械冲击或碰撞：‌ 搪瓷脆性大，受到硬物敲打或撞击极易碎裂。
6. ‌高压场合：‌ 通常不适合高压（高于PN16/Class 150）。
7. ‌修复困难：‌ 瓷层一旦破损，难以在现场修复，通常需要返厂或更换。